光刻技术，又被人称作为微影，它是生产半导体芯片过程中的一道程序。与其他程序不同的是，光刻是所有程序中最为复杂和关键的。它就相当于金工车间中车床的作用，不可缺^ . t少，可见其是多么重要。在整个芯片制造过程中，几乎每个工艺的实施都无法离开光刻Y ! # A M ~ N w技术。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到很多高M y – S ] ? % ] )科技领域的发展。
那么提到光刻，不得不提的就是光刻机I D t。可能大多数人对光刻机会感z } Q P [到很陌生。光刻机，又叫掩模对准曝光机，顾名思义就是用光来制作一个图! 7 D + ~ = R形。如果想要生产大规模集成电路，那么就离不开光刻q z 5 _ 3机。光刻机也是生产芯片的最7 A | y O n x L s为关键的设备之一，对于如此高的技术世界上只有很少数的厂家掌握，光刻机的制作成I ` +本很高，所以相对来说价格也很昂贵。
业内人士都知道，在制造高端光刻机方面，荷兰的ASw l } & 8ML公司是当之无 / 9 B +愧的巨头，其生产的高端光刻机能够达到世界顶级标准，没有任何一家公司k * 1 . 2 Y w I能撼动它的地位。然而很多人不知道的是，在ASML公司崛起之前，还有一家光刻机巨头，就是日本的尼康公司。G D F T B H ] 6 2但是如今尼康公司已经ASML公司取而代之，% Y ( ( y B k h这是为什么呢？在这场两个公司争夺巨头的战争中，有一个人M o 8 d ` Y V G起到了至关重要的作用，他就是中国台湾的林本坚。
1947年，世界上第一只点接触晶体管被成u y } X功研制出来，从此光刻技术开始得到发展。到了1959年，世界上第一架晶体管计算机诞生，并且提出了光刻工艺。三年之后，也就是1962年，当时的IBM，也就是我q n D们所说的国际商m W F u & J s用机器公司，在制造计算机T u 5 N n方面也投入了几十亿| q A 3美金来制造计算机，这笔巨; } 3 { R C x –额的投入甚至超过了美国研制第一颗原子弹时投入的资金，实在是令人瞠目结舌。
看到了光刻技术发展的前景如此好，日本按捺不住，也开始行动。当时日本电器公司经过多番努力，终于获得了仙童半导体的授权。日本政2 % Z z t府表示，希望电器公司能够与其它公司分享其获得的技术。此后，日本开始了半导体技术7 0 c的发展。随着一段时间的发展，三菱公司和京都电器也慢慢举起。日本的半导体产业发展的| _ x ) 8 K非常迅速y z ~ ，为寻求h ? | E新突破，有的公司就开始进军光刻技术的领域，其中就包括了佳能公O s Z f H司和尼康公司。而为了使国内的半导[ 4 b体产业发展的更快更浅，日本投入了前所未有的人力和财力。
到了二十世纪八十年代，久久没有遇到对手的的尼康公司，开始有了自己的第一个敌人——荷兰的ASML公司。
说起ASML公司的发展史，还要回到1986年，那个时候半导体产业受到冲击，美国的半导体市场非常萧条，光刻公司不是被收购就是面临破产，美国的光刻产业一蹶不振I t 7 + 5 t ~ f J。痛定思痛的美国政府做了l H 8 2 * P z } p一个重要决定：扶持其它的光刻公司以此来获得一席之地，而美国扶持的就是ASML公司。
有了美国的资金以及技术支持ASML公司发展迅速，慢慢崛起，而尼康公司则一直沉浸在战胜美国光刻产业的喜悦之中无法自拔。不得不提的是，光Z k ; a刻机中光的使用非常重要，必须对光源进行改良，才能提升光刻机的效率和技术。这时，当时光刻机的巨头公司尼康公司，就打算发挥它大公司的作用，决定选用0.04纳米的光，达到一个超常发挥的效果。但是在当时的科技条件下，他们选用的技术有点太超前了l y l 1 $，实0 5 u 9 u D施起r i j来有很大难度。这个时候，一个人站了出来，这个人曾经在IBM公司任职，对于成像技术可以说非常熟悉了。他提出了一个观点：光刻胶是有一定厚度的，且不能随意更改H # I : *厚度，那么在光刻胶的上方滴加一毫米的水，光刻胶厚度改变了，当193纳米的光穿过水之后，会将光源折射成为134纳米。这也就是后来的浸没式光刻机。
但是他的这个观点只被ASML公司采纳了，事实证明，ASML4 a c Q x A 5的选择非常果断且非常正确。后来，ASML公司的光刻技术非常成熟，不断有订单和客源，而尼康的+ N 7 $ u F j产品则无人问津，而ASML公司正是因为其果断、有魄力的行事方式以及林本坚的帮助下，逐渐成为光刻机霸主。
